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中國芯片邁出一大步,蝕刻機已達先進水平,光刻機迎頭快跑

發(fā)表時間:2019-08-20 15:34:37
國產(chǎn)芯片已經(jīng)取得了非常大的成果,雖然離世界芯片巨頭還有距離,但是現(xiàn)在無疑已經(jīng)來到了最佳時刻。我們知道在芯片制造領(lǐng)域,有兩個機器非常重要,那就是光刻機和蝕刻機。雖然我國在光刻機方面還在追跑,但是在蝕刻機方面絕對是躋身全球第一梯隊。

還記得在2004年當(dāng)時已經(jīng)60歲的尹志堯離開硅谷從事了二十多年的半導(dǎo)體行業(yè),帶隊回國創(chuàng)業(yè)。于是乎中微很快開發(fā)出第一臺國產(chǎn)的生產(chǎn)半導(dǎo)體芯片的設(shè)備,它便是等離子體刻蝕機?;蛟S大家還不知道,其實在全球最先進的可量產(chǎn)的7納米芯片工藝上,中微半導(dǎo)體是全球五大刻蝕機供應(yīng)商之一,并已進軍5nm領(lǐng)域。

按照當(dāng)前芯片發(fā)展進度,臺積電已經(jīng)開始打造5nm生產(chǎn)線,而在這條生產(chǎn)線上臺積電將搭載5nm等離子體蝕刻機便是來自于深圳中微半導(dǎo)體。目前該技術(shù)已經(jīng)得到了臺積電的驗證。

在芯片制造領(lǐng)域,光刻機和蝕刻機一直是芯片制造領(lǐng)域的關(guān)鍵。在業(yè)界有個形象的比喻,光刻機是芯片制造的魂,蝕刻機是芯片制造的魄,如果要想制造高端的芯片,這兩個東西都必須頂尖。

而在光刻機方面,與世界最先進的7nm制程都相去甚遠。不管三星、英特爾還是臺積電在芯片制程工藝方面如何去競爭,但ASML終究是背后最大霸主,最大贏家,因為他們誰都離不開他的EUV光刻機。而國產(chǎn)光刻機還在路上,目前我國已經(jīng)能夠使用365納米波長的光生產(chǎn)22納米工藝的芯片,這在全世界尚無先例,它也被稱為世界上首臺分辨力最高的紫外超分辨光刻裝備。這也意味著國產(chǎn)光刻機可以使用低成本光源,實現(xiàn)了更高分辨力的光刻。

從光刻機還是蝕刻機,至少可以看得出來國產(chǎn)芯片已經(jīng)取得了非常大的成就。中微半導(dǎo)體7nm蝕刻機的量產(chǎn),直接邁入世界一流行列,5nm蝕刻機也在實驗階段。而光刻機方面已邁入22納米。

我們也相信如果光刻機與蝕刻機紛紛取得進展,也將成為如果挑戰(zhàn)臺積電、三星、英特爾背后大霸主的有力籌碼。至少“科技自立”下,實現(xiàn)芯片研發(fā)國產(chǎn)化、加工制造本土化。那個時候,將會造福諸如華為、小米、OV等國產(chǎn)手機。
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